ハイパーブランチポリマー

「ハイパーブランチポリマーを用いるポリマー基板上へのナノパターン形成」
　ハイパーブランチポリマーの応用として、基板上へのパターニングを試みた。ハイパーブランチポリマーの粒径は１０ｎｍ弱であり、従来のミクロスフェアと比べると非常に緻密なパターニングが形成可能である。まず、イニマー１から合成されたハイパーブランチポリマーの表面のDC基からｔ−ブチルメタクリレートを重合し、続いて加水分解を行うことにより表面にカルボキシル基を導入した。
　次に基板として一部を4級化したポリ（４−ビニルピリジン）をカーボン膜上にキャストし用いた。この基板へ表面カルボキシル基化ハイパーブランチポリマーをキャストし、数回純水で洗浄した後、表面をＴＥＭで観察した。４級化率やポリマー濃度などをいろいろ変化させたところ基板上にハイパーブランチポリマーが単層で固定されていることが観察された。
　

Ishizu Koji; Kojima Takaaki; Ohta Yoshihiro; Shibuya Takeshi Nanopattern formation on polymer substrate using star-hyperbranched nanospheres. Journal of colloid and interface science (2004), 272(1), 76-81.


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